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氧化石墨烯新工艺打开应用新空间
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  • 2011-01-04 09:51:42
  •     上周从中科院金属研究所了解到,沈阳材料科学国家(联合)实验室利用氢碘酸、氢溴酸等卤化物还原氧化石墨烯,实现了氧化石墨烯在较低的温度下(≤100℃)快速、高效还原,所得石墨烯的碳氧比可达12以上,可以由此制备出低成本大面积的柔性石墨烯透明导电膜,为人类利用石墨烯开发新材料开辟了新途径。

      沈阳材料科学国家(联合)实验室研究的新方法突破了氧化石墨烯还原只有在碱性环境中才能进行的“戒律”,不仅可以实现对氧化石墨烯粉体的大量高效还原,而且非常适合于对氧化石墨烯薄膜进行直接还原。还原后所得石墨烯薄膜的体积电导率可以达到3×104s/m,明显优于原化学还原方法。特别是还原处理在去除薄膜层间含氧官能团的同时,反应产物以液相的形式从薄膜内部析出,产生的毛细作用力使薄膜厚度明显减小、结构更加致密,提高了石墨烯片层之间的结合力。还原后得到的石墨烯薄膜的导电性、力学强度和柔韧性等性能显著提高,解决了还原方法破坏薄膜结构的难题,为石墨烯透明导电薄膜在柔性器件领域的广泛应用奠定了基础。新的氧化石墨烯还原技术为氧化石墨烯在新材料中的应用打开了新途径。

      据介绍,石墨烯在已知材料中最薄,且非常牢固坚硬,可作为添加剂广泛应用于新型高强度复合材料。它作为单质,传递电子的速度比任何导体都快,因此利用氧化石墨烯溶液成膜,再对薄膜进行还原处理,可以制备出低成本大面积的柔性石墨烯透明导电膜,是下一代超高频率晶体管的基础材料,可用于制造高性能集成电路和新型纳米电子器件。此外,石墨烯有良好的水溶性、导电性及其对光的高透过性,可作为液晶显示以及太阳能电池的重要材料。

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