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三氟化氮
中文名称：
中文别名：
三氟化氮;氟化氮
英文名称：
Nitrogen trifluoride
英文别名：
N,N,N-Trifluoroamine;NF3;Nitrogen fluoride (NF3);nitrogenfluoride(nf3);Perfluoroammonia;Stickstoff(III)-fluorid;Stickstofftrifluorid;Trifluoroamine
CAS号：
EINECS号：
232-007-1
分子式：
F3N
分子量：
71
InChI：
InChI=1/F3N/c1-4(2)3
分子结构：
密度：
(liq at bp) 1.885
熔点：
--207°C
沸点：
-129°C
闪点：
-
折射率：
-
蒸汽压：
-
物化性质：
-
产品用途：
三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。
危险品标志：
风险术语：
-
安全术语：
远离易燃材料、不要吸入气体/烟雾/蒸汽/喷雾（适当的措辞由制造商规定）、如果通风不足，佩戴合适的呼吸器设备
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