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四甲基氢氧化铵
中文名称：
中文别名：
四甲基氢氧化铵, 25% W/W AQ. SOLN.;氫氧化四甲銨;四甲基氢氧化铵;四甲基氢氧化铵(约25%的水溶液);四甲基氢氧化铵(10%的甲醇溶液);四甲基氢氧化铵(10%的水溶液);四甲基氢氧化铵(10%的甲醇溶液)[用于光刻胶研究];氢氧化四甲基胺, 2.38% W/W AQ. SOLN., ELECTRONIC GRADE, 99.
英文名称：
四甲基氢氧化铵
英文别名：
N,N,N-TRIMETHYLMETHANAMINIUM HYDROXIDE;TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE;TMAH;Tetramethylammoniumhydroxide,25%soln.inmethanol;Tetramethylammoniumhydroxide,25%w/wAqueousSolution,99.5%(metalsbasis);TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDEOL;Tetramethylammonium hydroxide, 10% in water;Tetramethylammonium hydroxide, 25 wt% in methanol
CAS号：
EINECS号：
200-882-9
分子式：
C4H13NO
分子量：
91.15
InChI：
-
分子结构：
密度：
0.866 g/mL at 25 °C
熔点：
-°C
沸点：
110 °C
闪点：
80 °F
折射率：
n20/D 1.384
蒸汽压：
17.5 mm Hg ( 20 °C)
物化性质：
-
产品用途：
1.在有机硅方面，四甲基氢氧化铵作为二甲基硅油，氨基硅油，苯甲基硅油，有机硅扩散泵油，无溶剂有硅模塑料，有机硅树脂，硅橡胶等的催化剂；
2.在分析方面，四甲基氢氧化铵作为极谱试剂；
3.在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素；
4.在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。
5．在电路板的印刷和显微镜片的制造中，可作为集成电路板的清洗剂和半导体微加工技术中si-sio2界面的各向异性腐蚀剂。
6．用作CMP过程清洗剂，IC.vlsi及TFI-LCD正胶显影剂。###氨基硅油、201甲基硅油、硅橡胶等有机硅类产品聚合中的催化剂。当水溶液使用时，可用作合成RT培司催化剂，亦可用于聚酯类聚合物、纺织、皮革、木材加工、电子、电镀等行业，也是极谱实验支持液###用作计算机硅片面的光亮剂、触刻剂等
危险品标志：
风险术语：
-
安全术语：
如果发生事故或感到不适，请就医立即提出建议（如有可能，展示标签）、穿戴合适的防护服、戴上合适的手套、佩戴眼部/面部防护用品、如果接触眼睛，请立即用大量清水冲洗喝水并寻求医疗建议、远离火源-禁止吸烟、接触皮肤后，立即用大量…（由制造商规定）
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