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氧化铪 溅射靶材
中文名称：
中文别名：
氧化铪 溅射靶材;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THIC;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THICK, 99.95% (METALS BASIS EXCLUDING ZR);氧化铪(IV)溅射靶, 101.4MM (4.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.95% (METALS BASIS 去除 ZR)
英文名称：
氧化铪 溅射靶材
英文别名：
HAFNIUM(+4)OXIDE;HAFNIUM(IV) OXIDE;Hafnium(IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0in) dia x 6.35mm (0.25in) thick, 99.95% (metals basis excluding Zr);Hafnium (IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0 in.) dia. x 6.35mm (0.25 in.) thick
CAS号：
EINECS号：
235-013-2
分子式：
HfO2
分子量：
210.49
InChI：
-
分子结构：
密度：
9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
熔点：
-2810 °C
沸点：
-
闪点：
-
折射率：
-
蒸汽压：
-
物化性质：
-
产品用途：
-
危险品标志：
-
风险术语：
-
安全术语：
不要吸入灰尘、避免接触皮肤、避免接触眼睛
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