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氧化铟锡

中文名称:
中文别名:
氧化铟锡, NANOTEK|R, 99.5%;氧化铟锡, 91:9 W/W, 99.997%;氧化铟锡, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡, VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡(ITO);氧化铟锡(铟锡氧化物);氧化铟锡 100G;氧化铟锡溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.99% (METALS BASIS)
英文名称:
Indium tin oxide
英文别名:
ITO;INDIUM TIN OXIDE;indium tin oxide, 3mm-12mm pieces, 91:9 w/w;indium tin oxide, dispersion;indium tin oxide, vacuum deposition grade;ito coated slide;Indium stannic oxide;Indium tin oxide, 99.5% min (metals basis)
CAS号:
EINECS号:
-
分子式:
In2O5Sn
分子量:
428.34
InChI:
InChI=1/2In.5O.Sn/q2*+3;5*-2;+4
分子结构:
氧化铟锡
密度:
1.2 g/mL at 25 °C(lit.)
熔点:
-287℃
沸点:
82 °C
闪点:
57.2 °F
折射率:
n20/D 1.5290-1.5460(lit.)
蒸汽压:
-
物化性质:
-
产品用途:
氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。
危险品标志:
-
风险术语:
-
安全术语:
-
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